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  • 快速温变控温卡盘

    383

    产品介绍 该产品可以实现快速温度变化,精准控制温度。系统本⾝⾃带制冷机,避免了液氮、⼆氧化碳等的消耗,每个系统均包含了卡盘和冷热控制单元。 系统提供开放的表⾯平整⼯作平台,快速升降温、恒温控制,运⽤...

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  • 机柜式液冷CDU

    434

    利用液冷板热交换对服务器内部主要热源进行冷却,减少风冷系统的使用,通过液冷CDU为直接接触服务器发热元件的冷板提供冷却液循环, 省却制冷系统的能耗,实现降低PUE的目的

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  • 冷板式液冷CDU

    365

    利用液冷板热交换对服务器内部主要热源进行冷却,减少风冷系统的使用 通过液冷CDU为直接接触服务器发热元件的冷板提供冷却液循环, 省却制冷系统的能耗,实现降低PUE的目的

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  • 废气冷凝回收装置

    437

    应用于气体冷凝液化回收 将废气通过引风机接入到设备,通过降低温度液化捕集分离到收集罐中,其他气体排放,从而实现气体的冷凝捕集回收

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  • 半导体直冷机chiller

    420

    适用于半导体晶圆厂的刻蚀、化学气相沉积、物理气相沉积工艺制程,对ETCH、CVD、PVD制程设备的反应腔体进行精确控温 将制冷系统中的制冷剂直接输出蒸发进入目标控制元件(换热器)换热,从而使目标控制对象降温。...

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  • chiller 5-90℃ 换热型

    324

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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  • chiller -80℃~100℃

    326

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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  • chiller -80℃~80℃

    373

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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  • chiller -30℃~40℃ 变频 双路

    341

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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  • chiller -45℃~40℃

    397

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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  • chiller -25℃~40℃

    348

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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  • chiller 7℃~40℃

    340

    主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内加热方式采用压缩机热气加热浓 循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵 氨检测,安规检测,确保系统安全可靠 经过24小时连续运行拷机

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