冠亚恒温
制冷加热控温系统
无锡冠亚制冷加热系统性能优越，高精度、智能型温度控制，非常宽的温度控制范围，从-120℃~350℃一应俱全，适合多数企业恒温控制需求。产品控温精度可达±0.5℃，制冷功率从0.5kW到1200kW均可提供相应产品。
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TCU温控系统
无锡冠亚TCU温控系统可实现-120度~300度的动态控温，TCU温控系统采用现有的热能（如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”）基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中（而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体），通过运算控制整个反应过程温度。
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低温冷冻机
无锡冠亚生产低温制冷机，非常宽的制冷温度范围，可控温度-150度～-5度。采用二次过冷，制冷速度快，安全可靠，用于液体快速制冷，广泛应用于石化、医疗、制药、生化、冻干、制药、等行业低温反应。
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大事记EVENTS
行业动态Industry dynamics
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7恒温冷却Chiller经过多年技术积累和市场验证，已广泛适配于多个对温度控制精度、稳定性或洁净度有较高要求的行业。其应用不限于传统工业，更深入到制造与前沿科技领域。 一、半导体与泛半导体 核心需求：高洁净...
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半导体恒温冷却系统 Chiller是半导体制造过程中的辅助设备，主要用于准确控制工艺设备或环境的温度，以保障制程稳定性、设备寿命和芯片良率。其应用贯穿晶圆制造、封装测试等多个环节。 一、半导体 Chiller 的核...
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评估低温制冷循环器（Chiller，恒温冷却/加热循环系统）选型是否符合实际需求，需从工艺热负荷、温度要求、介质兼容性、系统集成性、可靠性及全生命周期成本六大维度进行系统化验证。 一、明确工艺热负荷 关键问...
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冠亚恒温单流体制冷制热循环机（如SUNDI、WTD、HR等系列）凭借其宽温域、高精度、快速响应、全密闭循环和防爆安全设计，特别适用于精细化工、制药、新材料等领域中对温度控制要求严苛的特殊反应类型。 一、强放...
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精细化工合成反应对温度控制要求高，加热与冷却系统在保障反应选择性、收率、安全性和产品质量方面起着作用。以下是精细化工合成反应中加热冷却系统的应用介绍： 一、加热冷却系统的重要性 准确控温：许多有机合...
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真空卡盘在半导体制造及加工领域应用广泛，其常见故障及排除方法如下： 一、真空吸力不足或完全失效 故障原因： 密封不良：真空卡盘的管路系统要求密封性高，若密封不良，会导致真空度下降，从而吸盘吸不...
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