光刻冷水机

半导体光刻工艺用高精度光刻冷水机核心技术解析及解决方案

2025/06/20 321

在半导体光刻工艺中，光刻冷水机作为关温控设备之一，直接影响光刻胶固化、刻蚀均匀性及光学系统稳定性。其核心在于高精度闭环控制、宽温域调节及快速响应能力，确保工艺重复性与良率。 一、光刻冷水机的温控核心...

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